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第31章 提前布局学聪明了（第3页）

“我不行，但可以帮你转交给龙国的外交天团，他们啊……厉害着呢！”

孟建国接收好了林安提供的相关技术资料，转头又问：

“那你打算制造的光刻机，就是资料上的这些？”

“不是。”

林安摇头叹息，“咱们龙国的发电量、生产环境、技术人员素养，暂时还无法支撑起EUV光刻机的相关产业链。”

也是硬伤，不是技术拿出来就能用的。

毕竟EUV光刻机属于高层建筑，没有牢固的地基，拿出来也是白搭。

要知道，EUV光刻机是耗电大户，一台每年所需的电量是百亿起步。

龙国历2007年，因为发电量不足，在用电高峰的时候，还会采用暂停居民用电供给的笨办法，来保证工业用电平稳。

单发电量一项，林安就不可能现在上马EUV光刻机。

而且除了电力，无尘车间的建设、芯片架构设计人员、高素质的芯片生产人员、以及相配套的产业链，更是无从谈起。

所以，还得一步步来。

但未雨绸缪，走一步看十步，一直是龙国的传统。

不用，并不妨碍布局。

“先编织起更高端光刻机的技术壁垒，当做是布局。

我真正要制造生产的主力光刻机，依旧是DUV光刻机。”

DUV光刻机的光源，是深紫外光，其光源波长在193纳米。

理论上，采用DUV光刻机生产的芯片，极限制程工艺通常在7纳米左右。

如果采用双重曝光技术，倒是可以突破制程限制，达成5纳米制程。

不过如此做法，会极大增加耗电量和降低良品率，制造成本大大增加。

但用在军工上，别说7纳米制程工艺的芯片了，28纳米制程工艺的芯片都完全够用。

军工嘛，需要芯片支撑的武器装备，哪个不比手机大？

“相关技术壁垒……”孟建国担心的问。

“深紫外光的光源系统，我走的方向和以鹰酱为首的西方国家并不一样。”

林安又从电脑中调出一份文档，里面满满当当的全是中文。

“这些，还需要麻烦孟上将，将它交给沪上光刻机研究所。”

“还是直接就造？”

“嗯，直接就造。”

得到肯定的答复后，孟建国摸了摸鼻子，背着手走远了。

他算是怕了林安。

能不能行，还是让那些专家们自己瞧瞧好了。

而且伸过脸去挨打的事儿，也让他们做好了……

他不伺候。